<sup>15</sup>N标记创伤弧菌及其培养基的制备方法
本发明的公开了一种<sup>15</sup>N标记创伤弧菌及其培养基的制备方法,培养基的制备方法包括下列步骤:(1)<sup>15</sup>N稳定性同位素标记光合细菌的培养;(2)<sup>15</sup>N标记创伤弧菌培养基的制备。<sup>15</sup>N标记创伤弧菌的培养方法包括下列步骤:(1)连续多次转接培养创伤弧菌;(2)高效液相色谱质谱联用技术(LC-MS/MS)验证标记的创伤弧菌菌细胞中蛋白质氮原子的标记效率。本发明提供的方法工艺成本低,为工业化制备氮标记创伤弧菌培养基提供了新的培养基来源。
发明专利
CN201410834990.9
2014-12-30
CN104531579A
2015-04-22
C12N1/20(2006.01)I
山东出入境检验检疫局检验检疫技术中心
李正义;贾俊涛;赵淑娟;赵鹏;姜英辉;唐静;马云
266002 山东省青岛市市南区瞿塘峡路70号
济南泉城专利商标事务所 37218
褚庆森
山东;37
一种<sup>15</sup>N标记创伤弧菌培养基的制备方法,其特征在于,包括下列步骤:(1)<sup>15</sup>N稳定性同位素标记光合细菌的培养;(2)<sup>15</sup>N标记创伤弧菌培养基的制备。