一株可耐受有机溶剂的恶臭假单胞菌及其在双液相反应中的应用
本发明公开了一株可耐受有机溶剂的恶臭假单胞菌(Pseudomonas putida),该菌株于2006年1月15日保藏于中国典型培养物保藏中心(武汉大学,中国武汉),保藏中心编号为:No.M206011。本发明还公开了所述的可耐受有机溶剂的恶臭假单胞菌在双液相反应中的应用,其方法包括:(1)菌株选择,(2)种子细胞培养,(3)制备催化剂细胞,(4)收集催化剂细胞,(5)休止细胞制备,(6)在双液相反应中处理样品,(7)样品检测;该菌株具有很强的耐受有机溶剂的能力,且具有较高的降解二苯并噻吩、4-甲基二苯并噻吩、4,6-二甲基二苯并噻吩和3-甲基苯并噻吩的能力,在双液相反应方面有十分重要的应用价值。
发明专利
CN200610044410.1
2006-03-03
CN1861785
2006-11-15
C12N1/20(2006.01)I
山东大学
许 平;陶 飞;于 波;马翠卿;冯进辉;李福利;王 颖;蔡晓凤;周文娟;曲径遥
250100山东省济南市历城区山大南路27号
济南圣达专利商标事务所
郑华清
山东;37
权利要求书1.一株可耐受有机溶剂的恶臭假单胞菌,其特征在于:该菌命名为恶臭假单胞菌(Pseudomonas putida)A4,已于2006年1月15日保藏于中国典型微生物菌种保藏中心,其保藏编号为CCTCC NO.M206011。